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3D接触角测量仪/水滴角测量仪应用于晶圆 wafer接触角测值

 美国科诺研制的3D接触角测量仪针对材料表面的化学多样性、异构性、表面粗糙度的影响分析具有非常强的实际价值。同时,由于大部分材料的测试表面水平度不够绝对水平、测试仪器的水平度调整不够完美,也会出现角度的偏差。

在具体应用中,主要体现为:

1、测试材料表面的清洁度:分析如液晶玻璃、手机玻璃、PCB板、硅片、晶圆、wafer表面的接触角值,评估其等离子清洗效果。如果出现左、右角度值偏差超过一定的范围,即视为清洁失败。这种方法可以实现快速(一滴液滴即可完成评估)、准确(角度值误差1度之内)。

2、评估材料的多样性情况:通常评估左、右角度值是否均匀,分析材料本身的涂布效果等。

在应用中,如下为一张顶视条件下的wafer表面的水滴角图片及其拟合效果图。

水滴角测量-晶圆

水滴角量仪

通过图片可以明显看出侧视条件下无法看到的情况,拟合的轮廓无法用圆实现拟合。主要是因为光刻蚀后形成的电路结构影响了水滴的吸附,因而,此种情况下只有3D接触角测量仪才能完成相应的测值。

 

   
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